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試料の大きさ, 紫外線の波長に応じた以下の製品をご用意しています
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紫外線照射装置/卓上型UV照射装置
- オゾンレス型(254nm)
- オゾン型(185nm & 254nm)
大型基板の処理が可能
試料にダメージを与えず高度な洗浄
表面処理技術の一つであるUV処理用の卓上型UV照射装置です。卓上型ながら大型基板の処理が出来、表面改質やウエハ洗浄等の処理プロセスの開発に最適です。基板設置台の高さ調整が可能で、厚みのある試料にも対応出来ます。紫外線の照射エネルギーと二次的に発生するオゾンにより有機汚染物質を酸化分解し、試料の洗浄・改質を行います。ウエット洗浄とは異なり廃液を出さず、試料に物理的ダメージを与える事なく高度な洗浄効果が得られます。また、有機汚染物質はガス化して排気されるため、有機汚染物質の再付着が起こりません。
本装置は卓上型の紫外線(UV)照射装置で以下の機能を有しています。
- 最大Φ300㎜のシリコンウエハ、ガラスなどの基板(試料)にUV照射を行い、表面の有機物を除去し、濡れ性を向上させることが出来ます。
- 基板(試料)ホルダーの上下、または取替えが容易なため、厚みのある基板(試料)を処理することが可能となります。
- オゾン発生型装置は、オゾンによる処理を併用することにより、高いクリーニング効果が可能となります。
- 基板(試料)セット後の処理は自動運転が可能です。
製品仕様: オゾンレス型(254nm), オゾン型(185nm & 254nm)
オゾンレス型(254nm), オゾン型(185nm & 254nm)仕様 | ||
型式 | オゾンレス型 | オゾン型 |
低圧水銀ランプ | オゾンレスランプ | オゾンランプ |
(U字型36Wx6本) | (U字型36Wx6本) | |
波長 [nm] | 254 | 185/254 |
ランプ安定器 | ラピッドスタート式 | ラピッドスタート式 |
共通仕様 | |
基板(試料)の大きさ | Φ300㎜ Siウエハ, ガラス等,□300㎜x50㎜ |
基板(試料)ホルダー | □300㎜ |
照射距離 | 5~55㎜ 基板(試料)ホルダーの高さを5mmきざみで変更可能 |
本体大きさ | W567×D662×H220 |
重量 | 28[㎏] |
ワーク取り出し | 上蓋開閉式 |
制御ユニット | 1) 制御方式:PLC制御 |
2) 操作パネル:押しボタンスイッチ方式 | |
3) ランプ電源:本体に内蔵 | |
電源 | AC 100V 15A(最大時) |
*...上記仕様は予告無く変更することがあります。
主な用途 |
■ ウェハ、フォトマスク、ガラス基板、光学部品の洗浄 ■ 樹脂素材の表面改質 ■ 接着、塗装、印刷、蒸着、はんだ等の密着性の向上 ■ 表面の濡れ性改善 ■ 電気製品 ■ 自動車(外装品・内装品) ■ 液晶ディスプレイ ■ 半導体 ■ 光学部品 ■ 木工用 ■ その他 |
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MUV1000, MUV2100, メープル